自旋回波变异波谱镀膜及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110303571.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113088905A | 公开（公告）日 | 2021-07-09 |
| 申请公布号 | CN113088905A | 申请公布日 | 2021-07-09 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/18（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 焦鑫;梁娟;张峰;吴克墀 | 申请（专利权）人 | 深圳力合防伪技术有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 | 代理人 | 满群 |
| 地址 | 518057广东省深圳市南山区高新南七道深圳清华大学研究院C320 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及自旋回波变异波谱镀膜及其制备方法，包括：⑴采用磁控溅射真空镀膜机在玻璃表面镀镀膜物质，在沉积过程施加56mT，26μs的磁场脉冲获得自旋回波变异波谱镀膜；⑵将自旋回波变异波谱镀膜和镀膜物质分别用X射线衍射仪测定纳米晶型结构；⑶采用按非相干接收方式工作的可变频率的牛津脉冲自旋回波核磁共振仪进行测量；⑷镀膜物质脉冲自旋回波波峰为252MHZ～352MHZ，自旋‑晶格豫驰时间T1：262μS～302μS，T2：23μS～25.2μS、对应的自旋回波变异波谱镀膜脉冲自旋回波波峰为285MHZ～385MHZ，自旋‑晶格豫驰时间T1：283μS～352μS，T2：29.2μS～45.5μS。 |
