一种变栅距凹面光栅及其制作工艺
基本信息
| 申请号 | CN201711287721.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108152873A | 公开（公告）日 | 2018-06-12 |
| 申请公布号 | CN108152873A | 申请公布日 | 2018-06-12 |
| 分类号 | G02B5/18 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 梁娟;焦鑫;杨莽;吴克墀 | 申请（专利权）人 | 深圳力合防伪技术有限公司 |
| 代理机构 | 广州市越秀区哲力专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | 深圳力合防伪技术有限公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区高新南七道深圳清华大学研究院C320 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种变栅距凹面光栅制作工艺，包括：调配复合树脂步骤：采用顺排碳纳米管、聚氨酯丙烯酸树脂、活性单体、引发剂混合，得到复合树脂；3D打印模型设计步骤：通过计算机设计具有空洞微结构的光栅模型；所述空洞微结构的尺寸为10‑20nm；所述光栅的特征线宽为0.4‑0.6μm；3D打印步骤：利用LED‑UV分辨率1080P的DLP‑3D打印机打印得变栅距凹面光栅。该制作工艺通过在3D数字建模过程中设计人造微结构及其采取随机分布排列方式，增加对不同方向入射电磁波的电磁响应，使得该变栅距功能的凹面光栅在较宽的频段内具有较高的折射率。 |
