一种真空渗铬用容器、系统
基本信息
申请号 | CN202121840614.2 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN216473440U | 公开(公告)日 | 2022-05-10 |
申请公布号 | CN216473440U | 申请公布日 | 2022-05-10 |
分类号 | C23C10/38(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 徐静;喻杰;叶林;杨顺;徐皓龙;胡宵阳 | 申请(专利权)人 | 四川华都核设备制造有限公司 |
代理机构 | 成都四合天行知识产权代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 611830四川省成都市都江堰市四川都江堰经济开发区龙翔路5号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种真空渗铬用容器、系统,所述容器包括真空箱,所述真空箱包括箱体及箱盖,所述真空箱上还设置有用于对其内部进行抽真空的气路,所述箱盖包括第一密封盖及第二密封盖;所述第一密封盖可拆卸连接于所述箱体的开口端;所述第二密封盖设置在箱体的内侧,第二密封盖通过锥面支撑于箱体内;所述锥面为沿着箱体周向方向延伸的环状,第二密封盖作为箱体内的分层隔板;锥面靠近第一密封盖一侧的尺寸大于另一侧的尺寸;第一密封盖与第二密封盖之间形成腔隙,所述气路的入口端与所述腔隙对接。所述系统以所述容器作为基础或为所述容器的具体运用。采用本方案提出的技术方案,可有效提保证渗铬过程的安全性。 |
