一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶
基本信息
| 申请号 | CN202022505954.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214300327U | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN214300327U | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 赵岩;苗润财;苗润发;苗伟伟;王健 | 申请（专利权）人 | 上海繁枫真空科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海互顺专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 成秋丽 |
| 地址 | 201507上海市金山区金山工业区亭卫公路3877号2幢305室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，公开了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架，所述靶支架的一侧上部设置连接有注水口，且靶支架的一侧下部固定连接有电机，所述靶支架的另一侧设置连接有靶腔，且靶支架的内部固定连接有靶旋转结构，所述靶腔的两侧固定连接有外齿轮，且靶腔的内部固定连接有靶材，所述注水口的一侧固定连接有进水管，所述进水管的一侧固定连接有冷却水管。本实用新型通过注水口、进水管、冷却水管、电机、转轴、第二齿轮、第一齿轮、靶旋转结构和靶腔，在电机的作用下，带动转轴的旋转，从而带动第二齿轮的旋转，使得第一齿轮受到第二齿轮旋转的力带动靶旋转结构的运转，便于工作人员的使用。 |
