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一种双真空舱室晶圆质子辐照装置及辐照方法

基本信息

申请号	CN202111509361.5	申请日	-
公开（公告）号	CN113903490A	公开（公告）日	2022-01-07
申请公布号	CN113903490A	申请公布日	2022-01-07
分类号	G21K5/00（2006.01）I;H01L21/263（2006.01）I	分类	核物理；核工程;
发明人	吕银龙;葛涛;王婉琳;张俊新;冯雨;石玉博;郭如勇;孙玺	申请（专利权）人	北京核力同创科技有限公司
代理机构	北京知联天下知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	张迎新
地址	100089北京市海淀区清华东路35号北林学研中心C栋1层107房间
法律状态	-

摘要

本发明提供一种双真空舱室晶圆质子辐照装置及辐照方法，所述双真空舱室晶圆质子辐照装置包括：晶圆辐照真空舱和换片真空舱，所述晶圆辐照真空舱和换片真空舱通过连接真空段连通；所述连接真空段外设有屏蔽墙；所述晶圆辐照真空舱设置于辐照厅，所述换片真空舱设置于辐照前厅，所述屏蔽墙把所述辐照厅和辐照前厅密封隔离开。所述辐照装置非常适合于高能质子辐照，有利于大幅减轻工作人员所受到的射线伤害，可以实现晶圆的均匀化辐照，提高辐照质量，容量大，提高生产效率，保证了晶圆托盘平稳传输，有效到位，不会对大气造成活化，有助于从两个方面提高辐照精度能够实现高性能IGBT芯片的生产和软度因子大于2的快软恢复快软恢复二极管的制造。