湿法蚀刻机台辅助补药系统及湿法蚀刻系统
基本信息
| 申请号 | CN202110698678.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113471105A | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN113471105A | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | H01L21/67（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 彭千华;陈春河;陈星;闵力;李志敏 | 申请（专利权）人 | 深圳方正微电子有限公司 |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 虞凌霄 |
| 地址 | 518172广东省深圳市龙岗区宝龙工业城宝龙七路5号方正微电子工业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种湿法蚀刻机台辅助补药系统，包括：补药控制器；换药信号获取单元，用于在获取到湿法蚀刻机台的换药信号时，使补药控制器停止动作；传感器，与补药控制器连接，并设于量杯中，用于检测量杯的液位；其中，补药控制器用于定时向湿法蚀刻机台的控制器发送碱液入量杯信号以使湿法蚀刻机台的控制器控制量杯中进碱液；补药控制器还用于在第一传感器检测到量杯达到第一液位时，向湿法蚀刻机台的控制器发送碱液入药槽信号以使湿法蚀刻机台的控制器控制量杯向药槽排碱液，并使量杯停止进碱液。本发明外挂于湿法蚀刻机台，在不更改管路和执行元器件情况下，通过外控电路实现自动补药功能，维持药槽药液浓度，从而提升工艺稳定性。 |
