一种自屏蔽梯度线圈的设计方法
基本信息
| 申请号 | CN201910658436.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110456293B | 公开（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申请公布号 | CN110456293B | 申请公布日 | 2021-07-20 |
| 分类号 | G01R33/385;G01R33/421 | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 李良安;陈琳鑫;安学亮;陈春霞 | 申请（专利权）人 | 惠仁望都医疗设备科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 072450 河北省保定市望都县经济开发区自强街1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种自屏蔽梯度线圈的设计方法，首先将根据成像区域目标点磁场值，通过边界元法和流函数法求出梯度线圈主线圈最大尺寸及主线圈在成像区域和屏蔽区域目标点的磁场值，根据主线圈在成像区域和屏蔽区域的磁场值来设定屏蔽线圈的目标点，从而控制屏蔽线圈在成像区域的磁场值，以实现对自屏蔽梯度线圈的功耗的控制。本发明采用上述结构的自屏蔽梯度线圈的设计方法，能有效提高自屏蔽梯度线圈的效率，降低自屏蔽梯度线圈的功耗。 |
