真空镀膜件及其制造方法
基本信息
| 申请号 | CN201010560964.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102477529B | 公开（公告）日 | 2014-07-16 |
| 申请公布号 | CN102477529B | 申请公布日 | 2014-07-16 |
| 分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张满喜 | 申请（专利权）人 | 北京中财慧智教育科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种真空镀膜件，包括基体及形成于基体上的颜色层，所述颜色层为Ti-O-N膜，该颜色层呈现的色度区域于CIE?LAB表色系统的L*坐标值介于50至60之间，a*坐标值介于-3至-2之间，b*坐标值介于-6至-10之间。本发明还提供一种上述真空镀膜件的制造方法。该真空镀膜件呈现出天蓝色的外观，从而丰富了真空镀膜层的颜色。 |
