壳体的制作方法及由该方法制得的壳体
基本信息
| 申请号 | CN201010555189.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102477527B | 公开（公告）日 | 2014-07-30 |
| 申请公布号 | CN102477527B | 申请公布日 | 2014-07-30 |
| 分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张成 | 申请（专利权）人 | 北京中财慧智教育科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种壳体的制作方法，提供基体，采用磁控溅射方法在基体的表面形成色彩层，之后，在金属靶材前端设置一移动的挡板，开启靶材电源，该靶材为钛靶、铬靶或锆靶中的任一靶材，调节该挡板至靶材正前方，沉积一定时间，使靶材原子溅射到该挡板上，并当溅射到靶材原子数量和溅射速度都稳定时，移开挡板，使靶材原子溅射到基体上，继续溅射一段时间后，关闭靶材电源，使图案层于色彩层表面的沉积停留于形核阶段，以在该色彩层上形成图案层。由上述方法所制得的壳体，该壳体包括一基体、一色彩层、一图案层，所述色彩层形成于基体的表面，所述图案层形成于色彩层的表面，所述图案层为Ti、Cr或Zr膜层。 |
