一种改性纳米蒙脱土的制备方法

基本信息

申请号 CN201010584389.0 申请日 -
公开(公告)号 CN102485805A 公开(公告)日 2012-06-06
申请公布号 CN102485805A 申请公布日 2012-06-06
分类号 C09C1/40(2006.01)I;C09C3/10(2006.01)I;C08K9/04(2006.01)I;C08K9/02(2006.01)I;C08K3/34(2006.01)I;C08L27/06(2006.01)I 分类 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用;
发明人 陈伟瑜;易国斌;廖辉;康正;林静川 申请(专利权)人 广东高科达科技实业有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 515041 广东省汕头市长平路津安区东侧外充公(永安小学斜对面)
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种改性纳米蒙脱土的制备方法,采用插层/偶联二次改性技术,以酸性复合插层水溶液作为分散剂,利用插层剂水溶液的溶剂化作用使蒙脱土分散,然后滴加一定量的钛酸酯偶联剂对蒙脱土进行表面改性。然后采用丙烯酸脂类单体二次插层改性蒙脱土,通过引发丙烯酸酯类单体在蒙脱土层间的聚合使纳米蒙脱土进一步分散,最后得到改性纳米蒙脱土。改性纳米蒙脱土可有效提高聚录乙烯(PVC)的热稳定性能。