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一种耐高温光纤布拉格光栅阵列的制备方法

基本信息

申请号	CN202111071126.4	申请日	-
公开（公告）号	CN113759459A	公开（公告）日	2021-12-07
申请公布号	CN113759459A	申请公布日	2021-12-07
分类号	G02B6/02（2006.01）I	分类	光学;
发明人	郑羽;江昕;邹琪琳	申请（专利权）人	北京知觉科技有限公司
代理机构	上海申新律师事务所	代理人	吴轶淳
地址	100085北京市海淀区上地三街9号B座10层B1102-1、B1102-2
法律状态	-

摘要

本发明提供一种耐高温光纤布拉格光栅阵列的制备方法，涉及光纤光栅制备技术领域，包括：步骤S1，对一单模光纤预制棒进行单层聚酰亚胺涂层的涂覆得到单层聚酰亚胺涂覆光纤；步骤S2，对所述单层聚酰亚胺涂覆光纤进行定点光栅写入以形成光纤布拉格光栅阵列；步骤S3，对形成有所述光纤布拉格光栅阵列的所述单层聚酰亚胺涂覆光纤进行所述单层聚酰亚胺涂层的二次涂覆，以制备得到耐高温光纤布拉格光栅阵列。有益效果解决了现有的聚酰亚胺涂层光纤布拉格光栅阵列无法耐受高温的问题，本技术方案制备得到聚酰亚胺涂层光纤布拉格光栅阵列可以耐受300～350℃高温，将光栅阵列的使用场景拓宽，可广泛用于油气开采运输、发电设施、大型工业设备的传感监测中。