一种化学机械抛光液
基本信息
| 申请号 | CN201911403893.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113122144A | 公开（公告）日 | 2021-07-16 |
| 申请公布号 | CN113122144A | 申请公布日 | 2021-07-16 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 黄悦锐;姚颖;荆建芬;倪宇飞;马健;杨俊雅;汪国豪;李恒;陆弘毅 | 申请（专利权）人 | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 北京大成律师事务所 | 代理人 | 李佳铭;王芳 |
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区碧波路889号1幢E座第1至第2层，以及第3层的部分区域 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种化学机械抛光液，所述抛光液含有：研磨颗粒、金属腐蚀抑制剂、络合剂、氧化剂、非离子表面活性剂以及水，所述非离子表面活性剂为乙氧基化丁氧基化烷基醇。使用本发明中的化学机械抛光液在获得较高TEOS（二氧化硅）和钽的去除速率的同时，能有效地调节BD（低介电常数材料）和铜的去除速率，能满足各种工艺条件下对材料去除的要求。 |
