一种化学机械抛光液
基本信息
| 申请号 | CN201911327408.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113004801A | 公开（公告）日 | 2021-06-22 |
| 申请公布号 | CN113004801A | 申请公布日 | 2021-06-22 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I;C23F3/04（2006.01）I;C23F11/14（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 郁夏盈;王晨;何华锋;李星;史经深;孙金涛 | 申请（专利权）人 | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 北京大成律师事务所 | 代理人 | 李佳铭;王芳 |
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区碧波路889号1幢E座第1至第2层，以及第3层的部分区域 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒、催化剂、稳定剂、含有腺嘌呤有机酸结构的腐蚀抑制剂、氧化剂、水和pH调节剂。不仅可以同时抛光金属钨、氧化硅，实现对钨金属保持较高的抛光速率、且对氧化硅保持中等的抛光速率、且高效抑制钨金属的静态腐蚀，改善抛光后的金属表面状况。 |
