一种化学机械抛光液
基本信息
| 申请号 | CN201911320536.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113004798A | 公开（公告）日 | 2021-06-22 |
| 申请公布号 | CN113004798A | 申请公布日 | 2021-06-22 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 李守田;任晓明;贾长征 | 申请（专利权）人 | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 北京大成律师事务所 | 代理人 | 李佳铭;王芳 |
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区碧波路889号1幢E座第1至第2层，以及第3层的部分区域 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种化学机械抛光液，所述化学机械抛光液包含水、氧化铈研磨颗粒和羟胺。化学机械抛光液还可通过进一步添加4‑羟基苯甲酸或水杨羟肟酸可以提高图案化二氧化硅片的去除速率。 |
