X光投影优化成像方法及系统

基本信息

申请号 CN202010211038.9 申请日 -
公开(公告)号 CN111399072A 公开(公告)日 2020-07-10
申请公布号 CN111399072A 申请公布日 2020-07-10
分类号 G01V5/00(2006.01)I 分类 -
发明人 不公告发明人 申请(专利权)人 上海陆影信息科技有限公司
代理机构 上海交达专利事务所 代理人 王毓理;王锡麟
地址 201315上海市浦东新区康威路1500号3幢105室
法律状态 -

摘要

摘要 一种X光投影优化成像方法及系统,通过设置位于被测物体两侧的射线源和探测器绕被测物体进行微动拍摄并获得若干投影图像后,对多个投影图像进行平面重建和叠加平均,获得放大率校正后的优化投影图像。本发明通过使用较小射线源到探测器距离,以多次投影照射辅以放大率校正算法获得边界清晰的可准确测量的投影图像。