CVD处理系统
基本信息
| 申请号 | CN202022618984.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213507189U | 公开（公告）日 | 2021-06-22 |
| 申请公布号 | CN213507189U | 申请公布日 | 2021-06-22 |
| 分类号 | C23C16/458（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张森;费磊 | 申请（专利权）人 | 宁波沁圆科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京金咨知识产权代理有限公司 | 代理人 | 宋教花 |
| 地址 | 315400浙江省宁波市余姚市三七市镇云山中路28号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种CVD处理系统，所述系统包括：放片子系统、反应腔和取片子系统，所述放片子系统包括放片腔、放片传送腔和放片传输组件，所述放片传送腔位于所述放片腔和反应腔之间，所述放片传输组件位于所述放片传送腔内，所述放片传输组件用于将所述放片腔内的托盘及衬底输送至所述反应腔；所述取片子系统包括取片腔、取片传送腔和取片传输组件，所述取片传送腔位于所述反应腔与所述取片腔之间，所述取片传输组件位于所述取片传送腔内，所述取片传输组件用于将所述反应腔内的托盘及衬底输送至所述取片腔。该CVD处理系统避免了由于传输组件、取放片腔或传送腔微粒污染所造成的表面缺陷，提高了产品良品率。 |
