具有InGaN电子减速层的VCSEL激光器
基本信息
申请号 | CN202123147411.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN216929168U | 公开(公告)日 | 2022-07-08 |
申请公布号 | CN216929168U | 申请公布日 | 2022-07-08 |
分类号 | H01S5/183(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 田康凯;贾兴宇;张紫辉;张勇辉 | 申请(专利权)人 | 天津赛米卡尔科技有限公司 |
代理机构 | 天津知晓邦知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 300400天津市北辰区双口镇河北工业大学科技园5号楼8-806 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种具有InGaN电子减速层的VCSEL激光器,包括衬底、缓冲层、氮化物外延DBR、N‑型半导体传输层、N‑型InGaN电子减速层、多量子阱层、P‑型电子阻挡层、P‑型半导体传输层、P‑型重掺杂半导体传输层、电流限制孔、电流扩展层、介质DBR、P型欧姆电极;N‑型半导体传输层、N‑型InGaN电子减速层、多量子阱层、P‑型电子阻挡层、P‑型半导体传输层、P‑型重掺杂半导体传输层、电流扩展层形成有台肩,台肩的底部延伸至N‑型半导体传输层,暴露的N‑型半导体传输层上设有N型欧姆电极;本申请实现对电子的阻挡效应,限制电子从MQWs中泄露,促进空穴注入与其发生辐射复合,通过InGaN的插入,会引入势垒,提高辐射复合速率,提高VCSEL光输出功率和光电转换效率,从而提高器件的性能。 |
