一种等离子体蒸发镀膜机
基本信息
申请号 | CN200720117837.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN201144276Y | 公开(公告)日 | 2008-11-05 |
申请公布号 | CN201144276Y | 申请公布日 | 2008-11-05 |
分类号 | C23C14/24(2006.01) | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 关秉羽;田修波 | 申请(专利权)人 | 沈阳市北宇真空设备厂 |
代理机构 | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人 | 沈阳市北宇真空设备厂;哈尔滨工业大学 |
地址 | 110045辽宁省沈阳市东陵区望花中街140-1号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种等离子体蒸发镀膜机,它涉及一种真空镀膜机。针对现有蒸发镀膜机镀膜质量难以保证的问题。本实用新型的进气管(2)的一端装在镀膜真空室体(1)内,镀膜真空室体(1)侧壁上设有室门(3),泵组(4)装在镀膜真空室体(1)上,转台装置(5)装在镀膜真空室体(1)内,转动机构(8)与转轴(6)连接,转轴(6)与转台装置(5)固接,转轴(6)与匹配箱(10)和射频等离子体电源(9)连接,转台装置(5)上固装有具有工件支架功能的射频天线(12),蒸发源电极(14)装在镀膜真空室体(1)的中间,蒸发源电极(14)之间设置电热丝(15),电热丝(15)内放置有金属条或金属棒材(16),电极电缆(19)的两端分别与蒸发电源(13)和蒸发源电极(14)固接。本实用新型可大大提高等离子体利用率、镀膜效率和膜层质量。 |
