一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法
基本信息
| 申请号 | CN201310302064.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103365520A | 公开（公告）日 | 2013-10-23 |
| 申请公布号 | CN103365520A | 申请公布日 | 2013-10-23 |
| 分类号 | G06F3/044(2006.01)I | 分类 | 计算；推算；计数; |
| 发明人 | 唐桂昌 | 申请（专利权）人 | 成都三利亚科技有限公司 |
| 代理机构 | 成都蓉信三星专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 四川世创达电子科技有限公司;成都三利亚科技有限公司 |
| 地址 | 610500 四川省成都市新都工业区东区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法，包括（1）导电薄膜烘烤缩水，（2）电极处导电层蚀刻：采用酸刻或蚀刻膏蚀刻的方式，将导电薄膜需要布设电极区域的导电层蚀刻掉，（3）在已蚀刻区域布设电极，（4）将布设好电极的导电薄膜置于烤箱进行烘烤，（5）导电层中央蚀刻出Pattern。本发明改变了现有制作电容屏Sensor的步骤，将原来的导电薄膜→烘烤缩水→导电层蚀刻形成Pattern→电极制作(涉及烘烤)中，制作电极的步骤提前，Pattern的制作提后，这样Pattern制作后，不再经过高温烘烤，而避免了基材形变与导电层形变的不同，水波纹也随之消除。 |
