一种法拉第屏蔽反应腔室
基本信息
申请号 | CN202020120986.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN211629038U | 公开(公告)日 | 2020-10-02 |
申请公布号 | CN211629038U | 申请公布日 | 2020-10-02 |
分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 分类 | - |
发明人 | 廖海涛;张飞 | 申请(专利权)人 | 无锡市邑勉微电子有限公司 |
代理机构 | 常州唯思百得知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 无锡市邑勉微电子有限公司 |
地址 | 214000江苏省无锡市新吴区金城东路333-1-801 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型涉及半导体制造领域,特别涉及一种法拉第屏蔽反应腔室。包括腔体顶盖、顶盖密封圈、石英管、电感支撑体、腔体密封圈、放电线圈、腔体密封盖、离子聚焦圈,还包括气体分散盘和线圈支架;电感支撑体套在石英管外,石英管上端通过顶盖密封圈与腔体顶盖密封固定连接,气体分散盘安装在腔体顶盖轴心下方,石英管下端通过腔体密封圈与腔体密封盖密封固定连接,离子聚焦圈安装在腔体密封盖下方,电感支撑体一周安装有线圈支架,线圈支架外缠绕有放电线圈。本实用新型提供的反应腔室,其可以避免反应腔体与外侧的放电线圈相接触造成短路,可以均匀快速地产生所需的等离子体,且结构简单。 |
