一种等离子喷涂装置
基本信息
申请号 | CN202111491289.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114318205A | 公开(公告)日 | 2022-04-12 |
申请公布号 | CN114318205A | 申请公布日 | 2022-04-12 |
分类号 | C23C4/134(2016.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 陈仕超;杨佐东;文海波;程润心;孙锐 | 申请(专利权)人 | 湖北芯洁电子科技有限公司 |
代理机构 | 北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 陈文丽 |
地址 | 438000湖北省黄冈市黄州区华海大道特1号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开的一种等离子喷涂装置,包括箱体、等离子喷枪、喷嘴和调节组件,等离子喷枪贯穿箱体设于箱体侧壁,喷嘴贯穿箱体设于箱体上部,调节组件包括支撑柱、横板、液压杆、支撑块、液压泵站、电机、右皮带轮、柱体、左皮带轮、传动皮带、放置板、限位板和挡板。本发明属于等离子喷涂技术领域,具体是一种通过对放置板的旋转以及对放置板的角度调节,可以对工件的其他面进行喷涂,大大的提高了喷涂的效率,对箱体内喷涂时产生的噪音进行吸收,降低噪音污染,对工件进行保护,防止工件从放置板上掉落,造成不必要的损失的等离子喷涂装置。 |
