瓦级全固态紫外激光清洗机及激光清洗方法

基本信息

申请号 CN200810056852.7 申请日 -
公开(公告)号 CN101219430A 公开(公告)日 2008-07-16
申请公布号 CN101219430A 申请公布日 2008-07-16
分类号 B08B7/00(2006.01);B08B7/04(2006.01);B08B5/00(2006.01) 分类 清洁;
发明人 沈德忠;许祖彦;李明远;王桂玲;沈光球;王晓青 申请(专利权)人 深圳市淼浩高新科技开发有限公司
代理机构 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人 清华大学;中国科学院物理研究所;深圳市淼浩高新科技开发有限公司
地址 100084北京市100084-82信箱
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了属于光能清洗技术范围的一种瓦级全固态紫外激光清洗机及激光清洗方法,用于集成电路等微电子基板清洗。该设备的电源连接激光共振腔,在激光共振腔发出的脉冲激光的光路上设置两块非线性光学晶体、选通镜和反射镜;在反射镜的侧上方固定一转镜鼓,传送带上放置被洗工件;在传送带的一侧放置吹风机,另一侧放置吸尘器。该方法包括连续或断续地输送待清洗的基板通过激光辐照处,由全固态激光器输出的瓦级近266nm脉冲激光照射到基板表面;选择适当的激光强度、脉冲频率及辐照时间,以对基板表面的微米及亚微米级颗粒、有机物、油污等污染物进行有效去除;清洗后镀层附着力和产品成品率都有很大提高,并很少有镀层翘曲、剥落的现象。