一种镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN202110079571.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113481486A | 公开（公告）日 | 2021-10-08 |
| 申请公布号 | CN113481486A | 申请公布日 | 2021-10-08 |
| 分类号 | C23C16/44（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I;C23C16/24（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I;C30B28/14（2006.01）I;C30B29/06（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 不公告发明人 | 申请（专利权）人 | 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业（有限合伙） |
| 代理机构 | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王锴 |
| 地址 | 242074安徽省宣城市经济技术开发区青弋江大道宣城科技园B19-1幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种镀膜方法，包括以下步骤：向工艺腔室内输入待镀膜工件；对所述工艺腔室内的待镀膜工件进行预热，预热过程中采用氩等离子体对所述工艺腔室的内壁进行预清洗处理，以减少工艺腔室内镀膜颗粒污染；将经过预清洗处理后的所述工艺腔室抽至镀膜所需的底压，在所述工艺腔室内对待镀膜工件进行镀膜。在镀膜工艺前，采用氩等离子体对所述工艺腔室的内壁进行预清洗处理，可以使工艺腔室内壁较为松动的薄膜提前脱落，留下附着力良好的薄膜，进而大幅度降低镀膜工艺过程中的膜颗粒的掉落风险；而且，氩等离子处理过程中对工艺腔室有一定的升温作用，可缩短待镀膜工件在工艺腔室中的加热过程，不会影响生产效率。 |
