一种下沉式真空腔体
基本信息
| 申请号 | CN202111640869.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114481081A | 公开（公告）日 | 2022-05-13 |
| 申请公布号 | CN114481081A | 申请公布日 | 2022-05-13 |
| 分类号 | C23C14/56（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张俊峰;赵子东;许春立;魏庆瑄 | 申请（专利权）人 | 上海子创镀膜技术有限公司 |
| 代理机构 | 上海尊肃专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 201506上海市金山区金山工业区金飞路808号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于真空镀膜设备技术领域，具体公开了一种下沉式真空腔体，包括底板，底板边沿的顶部均固接有侧板，侧板的顶端设有沿口板，位于左侧的侧板上设有抽气口和支撑臂，四个侧板围成的空腔内下沉有盖板，盖板底部两侧安装有放气挡板，放气挡板两侧均设有一排气孔；盖板的顶部固接有盖板下沉板；盖板下沉板的顶部固接有围板，盖板下沉板的两侧顶部均设有快速放气进气口和软放气进气口；盖板下沉板的顶部固接有盖板翻转臂，盖板翻转臂的一端延伸至围板的外部并与支撑臂连接；位于底板两端的侧板外侧均固接有端板，端板上设有若干固定孔，固定孔内设有紧固螺栓；本发明能够防止充气气流直接充进真空腔体将基片吹起或破碎，且生产效率高。 |
