一种适用于P+选择性发射极电池的硼工艺

基本信息

申请号 CN201910685542.X 申请日 -
公开(公告)号 CN110600558B 公开(公告)日 2021-06-25
申请公布号 CN110600558B 申请公布日 2021-06-25
分类号 H01L31/0224;H01L31/18 分类 基本电气元件;
发明人 瞿辉;曹玉甲;王芹芹 申请(专利权)人 江苏顺风光电科技有限公司
代理机构 常州知融专利代理事务所(普通合伙) 代理人 路接洲
地址 213169 江苏省常州市武进区高新技术产业开发区阳湖路99号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种适用于P+选择性发射极电池的硼工艺,包括以下步骤:(1)恒定源硼旋涂;(2)烘干;(3)进舟于炉管内;(4)检漏;(5)升温氧化;(6)无氧推进;(7)高温氧化;(8)降温;(9)低温乘积硼源;(10)低温推进;(11)出舟;(12)激光掺杂。本发明通过恒定源硼推进与气体硼源掺杂的共同作用,一方面形成了轻掺杂区域,拥有较高表面浓度浅结的结构,可有效地提升电池的开路电压和短路电流;另一方面用激光进行二次掺杂形成重掺杂区域,可有效的改善欧姆接触,提升填充因子。