等离子镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN90206431.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN2067280U | 公开（公告）日 | 1990-12-12 |
| 申请公布号 | CN2067280U | 申请公布日 | 1990-12-12 |
| 分类号 | C23C14/32 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘树德;高庆民;周玉福 | 申请（专利权）人 | 苏州市轻工业品设计研究所 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 215005江苏省苏州市范庄前24号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种冷阴极真空电弧型等离子镀膜装置，在冷阴极真空电弧产生的等离子区域内另有电热式金属蒸发源构成复式蒸发离化源。这样的复式蒸发离化源具有任何一单种蒸发源得不到的独特效果。是适用于塑料、玻璃、陶瓷、各种金属部件的多功能复合镀膜装置。 |
