一种用于碳化硅晶片腐蚀装置
基本信息
申请号 | CN202021747962.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN213061107U | 公开(公告)日 | 2021-04-27 |
申请公布号 | CN213061107U | 申请公布日 | 2021-04-27 |
分类号 | C30B33/10;C30B29/36 | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
发明人 | 胡秋冬 | 申请(专利权)人 | 福建北电新材料科技有限公司 |
代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 汤东凤 |
地址 | 362211 福建省泉州市晋江市陈埭镇江浦社区企业运营中心大厦 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种用于碳化硅晶片腐蚀装置,包括机械臂、坩埚和加热炉,坩埚放置在加热炉内,坩埚内装有碱性腐蚀液,所述机械臂包括立柱、正反转电机、升降支架和机械手,正反转电机安装在立柱上,所述升降支架由固定导轨、齿轮条和“7”字型支架组成,所述正反转电机主轴前面装有齿轮,所述正反转电机转动带动齿轮转动,通过齿轮条及固定导轨带动支架上下移动,所述支架前端通过快速转换接头连接机械手。本实用采用自动化的将晶片放入强碱腐蚀液,代替人为操作,避免人员受到伤害,且机械手设置有一定的倾斜角,使得晶片倾斜的进入到强碱腐蚀液中,容易被浸没,倾斜的拿出,减少了腐蚀液附着在晶片的表面张力,解决了破片和过腐蚀的风险。 |
