一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置
基本信息
| 申请号 | CN201620802031.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205934009U | 公开（公告）日 | 2017-02-08 |
| 申请公布号 | CN205934009U | 申请公布日 | 2017-02-08 |
| 分类号 | C23C14/32(2006.01)I;C23C14/10(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘毅 | 申请（专利权）人 | 深圳市傲创源科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518000 广东省深圳市宝安区沙井街道第一工业区D1栋2楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及真空离子镀设备技术领域，尤其是一种多功能真空多弧磁控热蒸发离子镀装置。它包括主体、弧源和平面磁控靶，主体内部设置有真空腔，弧源安装于主体侧壁上并穿过主体侧壁置于真空腔内，主体内壁设置有两个相对称的安装槽，平面磁控靶安装于安装槽内，真空腔内部设置有旋转装置，旋转装置周边或中心处垂直安装有圆柱磁控靶和热蒸发源，主体侧壁设置有真空排气窗，真空排气窗的正对面设置有密封门，密封门上开设有观察窗。本实用新型利用圆柱磁控靶镀一层二氧化硅，在金属表面形成一层透明二氧化硅膜层，利用热蒸发源将氧化物、氟化物蒸发到透明二氧化硅膜层上，以起到防指纹、防污、漓水、防腐的作用，其结构简单，操作方便，具有很强的实用性。 |
