一种折射率可调的AlN薄膜的制备设备
基本信息
| 申请号 | CN202121409192.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215517601U | 公开（公告）日 | 2022-01-14 |
| 申请公布号 | CN215517601U | 申请公布日 | 2022-01-14 |
| 分类号 | C23C14/06（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 唐云俊;王昱翔;周虹玲;周东修 | 申请（专利权）人 | 浙江艾微普科技有限公司 |
| 代理机构 | 嘉兴启帆专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 王大国 |
| 地址 | 314400浙江省嘉兴市海宁市海宁经济开发区双联路129号14幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种折射率可调的AlN薄膜的制备设备，设备包括工艺腔体，所述工艺腔体上设置有工艺气体进口和真空吸口，工艺气体进口连接有氮气管道和氩气管道，本实用新型可以通过精确调控反应溅射中工艺气体的氮气的含量，从而对氮化铝（AlN）的折射率进行调控，以达到设计的需求。 |
