高占空比MEMS微镜、微镜阵列及制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202111004154.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113820852A | 公开（公告）日 | 2021-12-21 |
| 申请公布号 | CN113820852A | 申请公布日 | 2021-12-21 |
| 分类号 | G02B26/08（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 李伟;徐静 | 申请（专利权）人 | 安徽中科米微电子技术有限公司 |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 卢炳琼 |
| 地址 | 233000安徽省蚌埠市禹会区科创产业园5号厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种高占空比MEMS微镜、微镜阵列及制备方法，该MEMS微镜的第一可动梳齿、第一固定梳齿位于反射镜硅层的下方，在实现两个方向大角度偏转的同时，提高了MEMS微镜的占空比，有效减小了MEMS微镜的体积。反射镜硅层下方带有加强筋结构，有效改善了MEMS微镜在静止及运动过程中的表面平整度。此外，本发明的MEMS微镜提供了包括双面电极结构在内的多种电极引出形式，应用时可以根据实际情况进行选择，更有利于MEMS微镜及微镜阵列的市场化应用。本发明有效克服了现有技术中的种种缺点而具有高度产业利用价值。 |
