一种微型晶圆摄像模组侧壁镀膜膜系及其加工工艺

基本信息

申请号 CN202010295655.1 申请日 -
公开(公告)号 CN111485199B 公开(公告)日 2022-03-22
申请公布号 CN111485199B 申请公布日 2022-03-22
分类号 C23C14/10(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;B05D1/26(2006.01)I;B05D3/06(2006.01)I;H04N5/225(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 吴岳;葛文志;王刚;余开封;徐宝利 申请(专利权)人 浙江美迪凯光学半导体有限公司
代理机构 浙江新篇律师事务所 代理人 龚玉平
地址 314408 浙江省嘉兴市海宁市长安镇(高新区)新潮路15号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及微型晶圆摄像模组镀膜技术领域。本发明公开了一种微型晶圆摄像模组侧壁镀膜膜系,包含四层涂层,由内至外依次为SiO2基础层、Nb涂层、Si涂层、SiO2涂层,所述黑色镀膜外侧光谱为400‑900nm,光密度不小于5,最大透过率不大于0.05%,最大反射率不大于50%,所述黑色镀膜内侧光谱为400‑900nm,最大反射率不大于25%。本发明还公开了镀膜膜系的加工工艺,结合点胶、喷溅镀膜等技术。该本发明有效解决极小模组侧壁无法使用传统塑胶成形Holder进行遮光问题,并达到在侧壁完全不透光的光学条件下具有厚度薄,膜层牢固度强。