一种激光束曝光机上下料装置可调节支架
基本信息
| 申请号 | CN202011530577.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112576893A | 公开（公告）日 | 2021-03-30 |
| 申请公布号 | CN112576893A | 申请公布日 | 2021-03-30 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;F16M11/18(2006.01)I;F16M11/10(2006.01)I;F16D41/12(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 分类 | 工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热; |
| 发明人 | 华卫群;尤春;刘维维;沈铁成;韦庆宇;杨东海;刘浩 | 申请（专利权）人 | 无锡中微掩模电子有限公司 |
| 代理机构 | 无锡苏元专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 吴忠义 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市新吴区菱湖大道202号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种激光束曝光机上下料装置可调节支架，包括支架凹槽座和滚动轴承，所述支架凹槽座后端设置有插槽，且插槽的内部插接有支架立板，所述支架凹槽座的内部设置有凹槽，且支架凹槽座的右侧设置有弹簧锁止按钮，所述滚动轴承的下方设置有竖板，且滚动轴承位于支架凹槽座的前端，所述凹槽的内部螺纹连接有螺钉，且螺钉的下方设置有棘轮，所述棘轮的下方设置有棘爪，且棘爪的前端设置有棘爪旋钮，所述棘轮的前后两端均设置有气动杆，且气动杆的下方铰接有底板。该激光束曝光机上下料装置可调节支架，与现有的普通支架相比，角度可调节固定支架，结构简单、操作方便、符合人体工程学要求、有效降低了不可控因素带来的资源浪费。 |
