一种掩模制造用新型真空系统及上下料方法

基本信息

申请号 CN202011530542.1 申请日 -
公开(公告)号 CN112758669A 公开(公告)日 2021-05-07
申请公布号 CN112758669A 申请公布日 2021-05-07
分类号 B65G47/90(2006.01)I 分类 -
发明人 华卫群;尤春;刘浩;刘维维;杨东海;韦庆宇;顾梦星 申请(专利权)人 无锡中微掩模电子有限公司
代理机构 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 代理人 吴忠义
地址 214000江苏省无锡市新吴区菱湖大道202号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属于掩模制造领域,提供了一种掩模制造用新型真空系统,包括工艺腔体,工艺腔体内设置有工件台和机械手臂,工艺腔体外侧在进出料口处设置有上下料腔体,上下料腔体通过进出料口与工艺腔体连通,进出料口设置有电控内封闭门,上下料腔体设置有与外界连通的送料口并设置有电控外封闭门;工艺腔体和上下料腔体均设置有真空调节装置。本发明同时提供了这种真空系统的上下料方法。本发明提供的掩模制造用新型真空系统及上下料方法,在工艺腔体前上下料腔体,在工艺进行过程中完成上下料真空环境的转换,减少交互对工艺的影响,整体上缩短制造用时,提高效率和产能,同时在工艺腔体内添加了预存料盒,节省工艺等待时间,进一步提高效率和产能。