一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗
基本信息
| 申请号 | CN202110266066.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112885689A | 公开（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申请公布号 | CN112885689A | 申请公布日 | 2021-06-01 |
| 分类号 | H01J37/317（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 华卫群;尤春;薛文卿;顾梦星;张月圆;刘维维;季书凤 | 申请（专利权）人 | 无锡中微掩模电子有限公司 |
| 代理机构 | 连云港联创专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 刘刚 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市新区菱湖大道202号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及掩模制版技术领域，且公开了一种新型FEI离子束修补机电子中和漏斗，包括电子中和漏斗本体，所述电子中和漏斗本体的一侧安装有支撑连杆，所述支撑连杆的顶部安装有工艺气体管道，所述工艺气体管道的端部安装有工艺气体喷嘴，所述电子中和漏斗本体的中间位置处开设有中心孔，所述电子中和漏斗本体的内部设置有内侧面和最低面。该一种新型FEI850离子束修补机电子中和漏斗，通过设置电子中和漏斗本体、内侧面和最低面，使得本发明具有防干扰功能和高效吸附性能，进而在设备修补过程中，具有对离子、电子更好的吸附性能，同时可根据二次离子束和二次电子流成像原理，避免了发散离子和电子的干扰，使得修补精度更高，成像更清晰。 |
