超声波清洗漕结构
基本信息
| 申请号 | CN202021823849.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213915194U | 公开（公告）日 | 2021-08-10 |
| 申请公布号 | CN213915194U | 申请公布日 | 2021-08-10 |
| 分类号 | B08B3/12（2006.01）I;B08B3/02（2006.01）I;B08B3/06（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 同小刚 | 申请（专利权）人 | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 焦天雷 |
| 地址 | 201203上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种超声波清洗漕结构，包括：内槽体用于容置清洗液和被清洗晶圆，被清洗晶圆浸泡于清洗液中；外槽体底部形成有内槽体安装孔，内槽体自内槽体安装孔进入外槽体，外槽体与内槽体之间形成容置空间，自内槽体溢出的清洗液能被容置于外槽体和内槽体之间的容置空间；多个扩散喷嘴形成有内槽体内侧壁，其用于将化学清洗液喷射向被清洗晶圆；每个扩散喷嘴设有独立控制扩散喷嘴控制阀或所有扩散喷嘴设有统一的扩散喷嘴控制阀。本实用新型能实现对清洗槽的彻底清洗，清洗效果好且有保障，可有效改善金属研磨后对产品的清洗效果，提高集成电路芯片产品的良品率和产品均一性。 |
