光学邻近效应修正方法及其修正系统
基本信息
| 申请号 | CN201910788194.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110456617B | 公开（公告）日 | 2021-08-10 |
| 申请公布号 | CN110456617B | 申请公布日 | 2021-08-10 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I;G03F1/36（2012.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 乔彦辉;王丹;于世瑞 | 申请（专利权）人 | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 焦天雷 |
| 地址 | 201315上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种基于模型的光学邻近效应修正方法，包括：基于模型将当前掩膜版上的图形仿真形成光刻胶轮廓；根据光刻胶轮廓与目标图形对应边位置关系判定边缘位置误差；筛选出满足预设修正条件的对边；计算筛选出对边的预移动量和实际移动量；对筛选出对边分别执行实际移动量的修正；重复上述步骤直至该版图中无满足预设修正条件的对边。本发明还公开了一种基于模型的光学邻近效应修正系统。本发明的光学邻近效应修正方法/修正系统可在进行光学邻近效应修正同次迭代时，通过提前给对边未来要进行同向移动结构的其中一边适当增加移动量，来降低产品缺陷的风险，提高产品的合格率。 |
