一种高选择比的化学机械抛光液及其应用
基本信息
| 申请号 | CN202010628968.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111662641B | 公开（公告）日 | 2021-10-26 |
| 申请公布号 | CN111662641B | 申请公布日 | 2021-10-26 |
| 分类号 | C09G1/02 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 刘卫丽;冯道欢;宋志棠 | 申请（专利权）人 | 浙江新创纳电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海泰能知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 魏峯;黄志达 |
| 地址 | 200050 上海市长宁区长宁路865号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种高选择比的化学机械抛光液及其应用，按重量百分比，包括如下组分：抛光颗粒0.1wt％‑30wt％；保护剂0wt％‑10wt％；表面活性剂0wt％‑10wt％；氧化剂0.001wt％‑10wt％；其余为水和pH调节剂。本发明可以明显改善相变材料的划伤，抛光速率得以提升，选择比大大提高，满足产业化应用对于相变材料抛光过程的要求。 |
