一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置
基本信息
| 申请号 | CN202210326399.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114695207A | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN114695207A | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 刘丹;方亮;黄中浩;刘毅;林鸿涛;吴旭;张淑芳;吴芳 | 申请（专利权）人 | 重庆大学 |
| 代理机构 | 重庆航图知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 400044重庆市沙坪坝区沙正街174号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置，所述湿法刻蚀装置包括等离子体清洗腔和刻蚀腔；所述湿法刻蚀装置还包括涡流管、冷却风刀Ⅰ、冷却风刀Ⅱ、加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ；所述涡流管的冷气管分别与冷却风刀Ⅰ和冷却风刀Ⅱ连通，所述涡流管的热气管分别与加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ连通。本发明通过引入涡流管形成特殊的气路装置，该装置可以将气体分离成冷气体和热气体，冷气体对基板和等离子体清洗腔进行降温，避免高压等离子体对Al、Cu、ITO等膜层的损伤，又可以充分去除有机物避免刻蚀残留，还能抑制挥发出的刻蚀蒸汽对膜层的腐蚀，防止线宽偏小的问题。同时，该装置分离出的热气体可以确保刻蚀腔室温度分布均匀，提升刻蚀均一性。 |
