用于制造高密度ITO溅射靶的方法
基本信息
| 申请号 | CN200980102084.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101910087A | 公开（公告）日 | 2010-12-08 |
| 申请公布号 | CN101910087A | 申请公布日 | 2010-12-08 |
| 分类号 | C04B35/457(2006.01)I;C04B35/64(2006.01)I;B28B1/26(2006.01)I;B28B7/38(2006.01)I;C01G19/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I | 分类 | 水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料〔4〕; |
| 发明人 | C·E·金;D·俾路支 | 申请（专利权）人 | 深圳赛丽图光电新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人 | BIZESP有限公司;深圳赛丽图光电新材料科技有限公司 |
| 地址 | 英国牛津郡 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 描述了一种制造氧化铟锡(ITO)溅射靶的方法，该方法包括沉淀氢氧化铟和氢氧化锡，在氯离子存在下烧结，使用所得到的氧化物粉末以制备具有分散剂、粘结剂、特别高密度的促进剂的含水粉浆，以及使用粉浆浇注的方法在特定的表面涂布的多孔铸模中压实该粉浆，随后烧结所得到的压实靶体，以产生高密度的ITO靶。 |
