一种纳米级厚度独立自支撑褶皱石墨烯膜及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201710955058.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107651673B | 公开（公告）日 | 2020-01-10 |
| 申请公布号 | CN107651673B | 申请公布日 | 2020-01-10 |
| 分类号 | C01B32/184;B82Y30/00;B82Y40/00 | 分类 | 无机化学; |
| 发明人 | 高超;彭蠡 | 申请（专利权）人 | 杭州德烯科技集团有限公司 |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 黄欢娣;邱启旺 |
| 地址 | 313100 浙江省湖州市长兴经济开发区明珠路1278号长兴世贸大厦8层830室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种纳米级厚度独立自支撑褶皱石墨烯膜及其制备方法，该石墨烯膜由氧化石墨烯经过抽滤成膜、化学还原、以及高温处理等步骤得到。该石墨烯膜由单层石墨烯通过物理交联组成，其中石墨烯基元结构完整，没有明显缺陷，富含褶皱，片层间乱层结构含量超过30％。其厚度极薄(16‑130nm)，表面具有大量皱褶，因而具有极好的柔性。 |
