一种独立自支撑石墨烯膜的制备方法
基本信息
申请号 | CN201710953513.8 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN107857252B | 公开(公告)日 | 2019-10-29 |
申请公布号 | CN107857252B | 申请公布日 | 2019-10-29 |
分类号 | C01B32/184(2017.01)I; B82Y40/00(2011.01)I | 分类 | 无机化学; |
发明人 | 高超; 彭蠡; 郭淇萌; 陈奕声; 叶怡伟 | 申请(专利权)人 | 杭州德烯科技集团有限公司 |
代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 黄欢娣;邱启旺 |
地址 | 313100 浙江省湖州市长兴经济开发区明珠路1278号长兴世贸大厦8层830室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种独立自支撑石墨烯膜的制备方法,该石墨烯膜由氧化石墨烯经过滤抽成膜、固相转移、化学还原等步骤得到。该石墨烯膜由单层氧化/还原氧化石墨烯通过物理交联组成。石墨烯膜厚度为10‑2000个原子层。氧化石墨烯膜厚度很小,并且内部存在大量的缺陷,因而具很好的透明度以及极好的柔性。化学还原后,大部分官能团消失,石墨烯膜具有一定得导电性400‑1200S/cm。此石墨烯膜可用作高柔性透明导电器件。 |
