一种热阳极法生产高性能类金刚石的装置及其使用方法
基本信息
| 申请号 | CN201910658837.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110257797A | 公开（公告）日 | 2019-09-20 |
| 申请公布号 | CN110257797A | 申请公布日 | 2019-09-20 |
| 分类号 | C23C16/26（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 黄仕江; 蒋源; 袁明 | 申请（专利权）人 | 上海妙壳新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201311 上海市浦东新区大团镇东大公路2458号1幢5600室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种热阳极法生产高性能类金刚石的装置，所述阴极弧源与真空腔体之间通过交流电源连接，且真空腔体的左侧设置有位于前后侧的第三磁场和第二磁场，所述真空腔体的内腔右侧设置有热阳极，且热阳极与左侧的阴极弧源之间设置有隔离板，所述真空腔体上开设有与热阳极对应的气体进入口，且热阳极与真空腔体之间通过直流电源连接。其使用方法包括以下步骤：S1靶材选择、S2热阳极选择、S3气体选择和S4阴极弧源设置。在该发明中，我们使用的是阴极弧源和热阳极来离化含C的气体，其离化电流高达100‑400A,可以稳定的高速沉积含H比较小的致密的优质的金刚石,其含H量小于15％，沉积速度可以达到8微米/小时。 |
