一种增强密集图形光刻分辨率的方法
基本信息
| 申请号 | CN202010638023.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111856888A | 公开（公告）日 | 2020-10-30 |
| 申请公布号 | CN111856888A | 申请公布日 | 2020-10-30 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 许箭;秦龙;耿文练;花雷 | 申请（专利权）人 | 儒芯微电子材料（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 上海剑秋知识产权代理有限公司 | 代理人 | 儒芯微电子材料（上海）有限公司 |
| 地址 | 201206上海市浦东新区川桥路1295号2幢305室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种增强密集图形光刻分辨率的方法，包括执行胶图案化工艺，从而形成第一掩模图案；执行胶层处理工艺；再次执行胶图案化工艺，从而形成第二掩模图案，第二掩模图案中的图形与第一掩模图案中的图形间隔设置；其中，胶图案化工艺包括：在衬底上依次形成第一胶层和第二胶层；通过光刻曝光工艺在第一胶层上形成曝光区和非曝光区；采用第一溶剂去除曝光区和第二胶层的部分区域，或者先采用第二溶剂去除曝光区，再采用第三溶剂去除第二胶层的部分区域，从而在第一胶层形成第一图案，在第二胶层形成第二图案，第二图案是在第一图案基础上缩进后的图案；采用第四溶剂去除非曝光区；胶层处理工艺用于使第一胶层耐第一溶剂或第三溶剂溶解。 |
