含碱性香豆素结构的聚合物树脂及其光刻胶组合物
基本信息
| 申请号 | CN201710858228.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107621751B | 公开（公告）日 | 2018-01-23 |
| 申请公布号 | CN107621751B | 申请公布日 | 2018-01-23 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I; | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 许箭;刘晓华;秦龙;汪武平;耿文练 | 申请（专利权）人 | 儒芯微电子材料（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 上海剑秋知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杨飞 |
| 地址 | 201306上海市浦东新区泥城镇云汉路979号2楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提出了含碱性香豆素结构的聚合物树脂及其光刻胶组合物，涉及一系列含碱性香豆素结构的聚合物树脂的合成方法及包含该聚合物树脂的光刻胶材料的制备方法。本发明将碱性香豆素结构引入光刻胶主体树脂中，该树脂既可以满足化学光刻胶基本树脂的要求，又可以作为吸光剂和碱性添加剂，能够有效地改善光刻图形分辨率和形貌。该光刻胶主要应用于大规模集成电路光刻技术中，如紫外、深紫外、极紫外及电子束等光刻技术中，尤其适用于248nm光刻技术。 |
