一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
基本信息
| 申请号 | CN201510068221.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104674181B | 公开（公告）日 | 2017-01-25 |
| 申请公布号 | CN104674181B | 申请公布日 | 2017-01-25 |
| 分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 朱锡芳;徐安成;杨辉;许清泉;陈功 | 申请（专利权）人 | 常州常工院技术转移有限公司 |
| 代理机构 | 南京知识律师事务所 | 代理人 | 常州工学院 |
| 地址 | 213031 江苏省常州市新北区辽河路666号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，属于镀膜设备领域。本发明包括真空室、开卷机构、冷却辊、收卷机构、阴极小室、纠偏装置和回转换靶装置，开卷机构和收卷机构处各设有一组纠偏装置；冷却辊、阴极小室和回转换靶装置处于同一轴线上；回转换靶装置包括机座、回转盘、回转机构、轴向伸缩机构、两个或两个以上的伸缩轴套、极靶座板和径向伸缩机构，当轴向伸缩机构收缩后，径向伸缩机构刚好位于一个伸缩轴套的下方；开卷机构和收卷机构带动基带实现往复运动。本发明在不打开真空室的情况下即可快速更换阴极靶，并利用基材往复运动实现多层膜层的连续镀制，每层膜均能单独镀制，便于膜层参数的控制；设备结构紧凑。 |
