一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
基本信息
| 申请号 | CN201510066781.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104611681B | 公开（公告）日 | 2017-01-25 |
| 申请公布号 | CN104611681B | 申请公布日 | 2017-01-25 |
| 分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 朱锡芳;陈功;徐安成;许清泉;杨辉 | 申请（专利权）人 | 常州常工院技术转移有限公司 |
| 代理机构 | 南京知识律师事务所 | 代理人 | 高桂珍 |
| 地址 | 213031 江苏省常州市新北区辽河路666号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，属于镀膜设备领域。本发明包括真空室、开卷机构、收卷机构、冷辊、纠偏装置、两个或两个以上的回转换靶装置、以及与每个回转换靶装置位置相对应的两面开口的阴极小室，开卷机构和收卷机构处各设有一组纠偏装置；阴极小室分布于冷辊包覆有基带的圆周面上，且每组回转换靶装置及与其对应的阴极小室均与冷辊设于同一轴线上；开卷机构和收卷机构带动基带实现往复运动。本发明在不打开镀膜真空室的情况下即可及时快速更换阴极靶，并利用基材往复运动实现多层膜层的镀制；一次镀膜行程可以完成多层膜层的镀制，大大提高了镀膜效率，尤其适合于大批量高效率生产。 |
