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一种可抗PID的硅片表面镀膜的臭氧喷淋系统

基本信息

申请号 CN202120146722.3 申请日 -
公开（公告）号 CN216015398U 公开（公告）日 2022-03-11
申请公布号 CN216015398U 申请公布日 2022-03-11
分类号 H01L31/18（2006.01）I;H01L31/0216（2014.01）I 分类 基本电气元件;
发明人 卢艳兵;简学勇;胡浩仑;范立峰;李建敏 申请（专利权）人 赛维LDK太阳能高科技（新余）有限公司
代理机构 南昌逸辰知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 刘阳阳
地址 338000江西省新余市高新技术产业园区
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供了一种可抗PID的硅片表面镀膜的臭氧喷淋系统，包括支撑钢架和臭氧电柜，支撑钢架的上方固定安装有臭氧电柜，臭氧电柜内壁的的上方固定安装有蜂鸣器，臭氧电柜内部的左侧固定安装有臭氧发生器，臭氧发生器右侧的排气端固定安装有排气管，排气管的中部固定安装有电磁阀，臭氧电柜的内部下方固定安装有温度传感器，臭氧电柜内部的右下方固定安装有空气开关，臭氧电柜的正表面右侧固定安装有固定控制面板，支撑钢架的底端通过支架固定安装有臭氧喷淋箱，臭氧喷淋箱的底端竖向开孔设置有通孔，臭氧电柜内壁的左上方和右下方均固定安装有风机。本实用新型安全性能更高，喷淋箱罩设计更加合理，更加便于对臭氧电柜和软管进行检修。