一种显影机用硅片清洗机构
基本信息
| 申请号 | CN202023086228.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214289623U | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN214289623U | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | B08B3/02（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 吴想;刘惠明 | 申请（专利权）人 | 江西维易尔半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | 南昌合达信知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 李良 |
| 地址 | 334000江西省上饶市上饶经济技术开发区光电创谷路9号厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及显影机技术领域，尤其涉及一种显影机用硅片清洗机构，其包括清洗杯体、喷水环和固定底座，所述喷水环固定设于所述清洗杯体的上，所述固定底座固定设于所述清洗杯体的底部，所述清洗杯体、喷水环和固定底座上分别设有相对应的安装通孔，所述清洗杯体、喷水环和固定底座分别经螺杆设于所述安装通孔内进行固定安装，所述清洗杯体的侧壁上设有数个分布均匀的进液孔，所述喷水环上设有数个分布均匀的喷液孔，所述进液孔与所述喷液孔之间设有数条用于液体流通的通道，其不仅加工简单，所需成本低，使用寿命长，且无渗漏风险，可以满足市场需求。 |
