一种光刻胶匀胶显影机的冷却装置
基本信息
| 申请号 | CN202120439504.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214311292U | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN214311292U | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | G03F7/38（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 吴想;戴文海;周加宏 | 申请（专利权）人 | 江西维易尔半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | 南昌合达信知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 陈龙 |
| 地址 | 334000江西省上饶市上饶经济技术开发区光电创谷路9号厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及显影机技术领域，尤其涉及一种光刻胶匀胶显影机的冷却装置，其包括底板、分别相对应固定设于底板两侧的侧板，主控制基座和连接板，底板上固定设有冷板底座，其内设有冷板和散热块，冷板和散热块经盖板固定设于冷板底座内，冷板上设有多个可调节定位的硅片定位块和顶孔，冷板的底部设有温感压块和均匀分布并依次电性连接的制冷片，温感压块内设有温感探头，主控制基座上固定安装有气缸和温控控制电路板，气缸的伸缩杆上连接有支架连接块，其的一端固定设有顶杆并位于冷板底座内，顶杆的一端穿过散热块并设于顶孔内，其不仅结构简单，所需成本低，温度感应精准，不会影响硅片的冷却效果，保证硅片生产质量，可以满足市场需求。 |
