一种高效真空镀膜系统
基本信息
| 申请号 | CN202120121729.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214193435U | 公开（公告）日 | 2021-09-14 |
| 申请公布号 | CN214193435U | 申请公布日 | 2021-09-14 |
| 分类号 | C23C14/26（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张楠林;王静波 | 申请（专利权）人 | 阳明量子科技（深圳）有限公司 |
| 代理机构 | 重庆乐泰知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 郭泽培 |
| 地址 | 518103广东省深圳市宝安区福海街道新田社区征程一路福永第一工业村3号407 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种高效真空镀膜系统，包括有工作台、真空机构、镀膜机构和控制机构，镀膜机构包括有设于工作台上侧的镀膜腔，镀膜腔上端设有凸环，凸环开有环槽，凸环铰接有腔盖，腔盖圆心处设有螺纹杆，螺纹杆远离镀膜腔一端设有第一把手，螺纹杆另一端转动装配有与环槽相匹配的密封板，凸环相对铰接点一侧设有回弹组件，凸环相对于铰接点一侧设有C形块，腔盖设有与C形块相匹配的J形弹性卡块，本设备能够进行高效的真空镀膜加工，起到良好密封效果的同时便于工件、材料的添加。 |
